发明名称 一种可用于低温环境下氧化沟工艺的导流式潜水曝气器
摘要 本实用新型属于环境保护中污水处理设备制造技术领域。特别涉及一种可用于低温环境下氧化沟工艺的导流式潜水曝气器。目的是为解决现有表面曝气设备过度搅拌水面,引起水温下降,热量流失多,能耗大,沟底推流动力小,不适用于低温环境下氧化沟工艺等问题。水流全部从导流式潜水曝气器上方进入,经导流罩从叶轮下方流出,叶轮旋转产生的向下流打碎空气出口提供的空气而产生微气泡,从而产生混合均匀的气水流。本实用新型具有推流效果好,设备数量少,不需另外设置推流搅拌器,不产生飞沫、水声和臭气等二次污染,适用于任何形状、不同深度的氧化沟等优点使氧化沟在低温环境下也能充分发挥其功能。
申请公布号 CN203021353U 申请公布日期 2013.06.26
申请号 CN201220720379.X 申请日期 2012.12.24
申请人 辽宁北方环境保护有限公司 发明人 赵军;王卓;王阳;刘万杨;宋剑锋;何亚婷;张黎;李艳春;闫佳;杨彬
分类号 C02F3/12(2006.01)I 主分类号 C02F3/12(2006.01)I
代理机构 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人 俞鲁江
主权项 一种可用于低温环境下氧化沟工艺的导流式潜水曝气器,其特征是,所述的曝气器设置在氧化沟的液面下;所述曝气器包括导流罩,所述导流罩的上端为进水口,所述导流罩的下端为出水口;所述出水口用来控制水流的流向;所述导流罩内设置水下电机及叶轮,所述水下电机通过转轴驱动所述叶轮;在所述导流罩的出水口的下部设置空气室,所述空气室的进气口通过空气管与鼓风机连接;所述空气室的出气口设置在所述出水口的下方。
地址 110161 辽宁省沈阳市东陵区双园路30甲-2号
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