发明名称 | 基于气体团簇离子束技术的中性射束处理方法和设备 | ||
摘要 | 提供用于处理材料的来自加速气体团簇离子束的加速中性射束的设备、方法和产品。 | ||
申请公布号 | CN103180030A | 申请公布日期 | 2013.06.26 |
申请号 | CN201180051189.1 | 申请日期 | 2011.08.23 |
申请人 | 艾克索乔纳斯公司 | 发明人 | 肖恩·R·柯克帕特里克;艾伦·R·柯克帕特里克 |
分类号 | B01D59/00(2006.01)I | 主分类号 | B01D59/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 杨帆 |
主权项 | 一种处理工件表面的方法,其特征在于,包括以下步骤:提供减压室;在所述减压室中形成包含气体团簇离子的气体团簇离子束;在所述减压室中加速所述气体团簇离子以形成沿射束路径的加速气体团簇离子束;促使至少一部分沿射束路径的所述加速气体团簇离子分裂和/或离解;在所述减压室中从射束路径中去除带电粒子以形成沿射束路径的加速中性射束;在所述射束路径中保持工件;以及用所述加速中性射束辐照处理所述工件的至少一部分表面。 | ||
地址 | 美国马萨诸塞州 |