发明名称 |
包括非易失性存储器单元的集成电路和形成非易失性存储器单元的方法 |
摘要 |
一种集成电路具有非易失性存储器单元,所述非易失性存储器单元包含第一电极、第二电极和在其间的离子导电材料。所述第一和第二电极中的至少一者具有直接抵靠着所述离子导电材料收纳的电化学活性表面。所述第二电极升高地在所述第一电极外。所述第一电极在第一方向上侧向延伸,且所述离子导电材料在不同于所述第一方向且与所述第一方向相交的第二方向上延伸。所述第一电极仅在所述第一与第二方向相交的情况下才直接抵靠着所述离子导电材料收纳。揭示了包含方法实施例的其它实施例。 |
申请公布号 |
CN103180950A |
申请公布日期 |
2013.06.26 |
申请号 |
CN201180050740.0 |
申请日期 |
2011.09.15 |
申请人 |
美光科技公司 |
发明人 |
刘峻;约翰·K·查胡瑞 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
宋献涛 |
主权项 |
一种集成电路,其包括非易失性存储器单元,所述非易失性存储器单元包括:第一电极、第二电极,和在所述第一电极与所述第二电极之间的离子导电材料;所述第一和第二电极中的至少一者具有与所述离子导电材料直接抵靠的电化学活性表面;所述第二电极升高地在所述第一电极外;且所述第一电极在第一方向上侧向延伸,所述离子导电材料在不同于所述第一方向且与所述第一方向相交的第二方向上侧向延伸,所述第一电极仅在所述第一与第二方向相交的情况下才与所述离子导电材料直接抵靠。 |
地址 |
美国爱达荷州 |