一种蚀刻方法

摘要

本发明公开一种蚀刻方法，所述方法先对掩膜处理后的工件进行初次蚀刻，基本形成断面呈梯形的凸凹图形，然后对初次蚀刻后的工件脱膜，并进行再次蚀刻，去掉棱边和棱角，最后进行将工件在蚀刻液中静液浸泡，进行进一步修形，最终在工件表面加工出具有平滑过度效果、断面呈凸凹状圆锥形的阵列微结构。本发明所公开的方法可用于所有可以用模具注塑加工出的产品中，例如电脑、手机、电子产品、汽车内饰、眼镜架等，可在产品表面加工出具有平滑过度效果、断面呈凸凹状圆锥形的阵列微结构，不仅增加美观，为人们的视觉带来丰富性和多样性，而且具有防滑效果。

主权项

一种蚀刻方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）对工件进行掩膜处理；（2）将掩膜处理后的工件放到蚀刻机中进行初次蚀刻，从蚀刻机喷嘴中喷出的蚀刻液a的压力为0.3～1.8psi，蚀刻时间3～10min；（3）对初次蚀刻后的工件进行脱膜处理；（4）将脱膜处理后的工件再放到蚀刻机中进行再次蚀刻，从蚀刻机喷嘴中喷出的蚀刻液a的压力为0.1～0.8psi，蚀刻时间2～6min；（5）对再次蚀刻后的工件进行清洗，然后放到蚀刻液b中浸泡，浸泡时间0.5～2min；（6）将经过步骤（5）处理后的工件清洗，并去除工件表面杂质。