发明名称 集成电路结构
摘要 本发明提供集成电路结构,包括半导体芯片,金属垫在半导体芯片的主要表面上,以及凸块下金属层在金属垫之上与金属垫接触,金属凸块形成于凸块下金属层之上与凸块下金属层电性连接,伪图案形成在与金属垫相同的水平面上,且由与金属垫相同的金属材料形成。本发明对于改善芯片的可靠度具有显著的效果。
申请公布号 CN102208409B 申请公布日期 2013.06.26
申请号 CN201010501849.9 申请日期 2010.09.30
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 刘醇鸿;侯上勇;郑心圃;吴伟诚;魏修平;陈志华;郭正铮;陈承先;曾明鸿
分类号 H01L27/02(2006.01)I;H01L23/58(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 姜燕;陈晨
主权项 一种集成电路结构,包括:一半导体芯片;一金属垫,设置于该半导体芯片的一主要表面上;一凸块下金属层,设置于该金属垫之上,与该金属垫接触;一金属凸块,设置于该凸块下金属层之上,与该凸块下金属层电性连接;以及一伪图案,设置在与该金属垫相同的水平面上,且由与该金属垫相同的金属材料制成,其中该伪图案包括一连续的伪金属保护物,完全地围绕该金属垫。
地址 中国台湾新竹市