发明名称 | 一种晶体硅太阳能电池刻蚀方法 | ||
摘要 | 本发明涉及太阳能利用技术领域,具体地说,本发明是一种应用于硅太阳电池刻蚀(背腐蚀)工段的方法。本发明是使用有机碱混合液代替氢氧化钾,又因为有机碱混合液只与硅反应,且能到到抛光效果,同时有机碱液与磷硅玻璃几乎不反应;生产中的硅片经过工艺槽后背面和侧面的磷硅玻璃已被去除,而扩散面磷硅玻璃完好,所以在扩散面不被破坏的情况下使得非扩散面抛光,从而使得非扩散面与背场银浆增加有效接触,以提高电池片短路电流、开路电压、并联电阻及转换效率。 | ||
申请公布号 | CN103178159A | 申请公布日期 | 2013.06.26 |
申请号 | CN201310086176.9 | 申请日期 | 2013.03.19 |
申请人 | 江苏大学 | 发明人 | 吴春霞 |
分类号 | H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人 | 楼高潮 |
主权项 | 一种晶体硅太阳能电池刻蚀方法,包括将硅片经过碱槽用药液以喷淋的方式对硅片进行冲洗的步骤,其特征在于:碱槽中的药液使用有机碱混合液代替氢氧化钾,药液配比为50g/L胆碱+250g/L的四甲基氢氧化铵(TMAH)+100g/L异丙醇的水溶液。 | ||
地址 | 212013 江苏省镇江市京口区学府路301号 |