| 摘要 |
<p>Ein System zur Anwendung eines plasmamodifizierten Feldes (PMF) auf ein Subjekt, wobei das System gekennzeichnet ist durch: a. eine ein nicht thermisches Plasma (NTP) emittierende Quelle zum Emittieren eines Plasmastrahls; b. eine plasmamodifizierte Feldankoppelvorrichtung (PMFCM) umfassend eine Plasmastrahlplatte mit mindestens einer Öffnung für den Durchgang des besagten Plasmastrahls; wobei besagte Plasmastrahlplatte eine erste Oberfläche und eine zweite gegenüberliegende Oberfläche hat; wobei besagte erste Oberfläche der besagten Plasmastrahlplatte ausgerüstet ist mit: i zumindest einem Koppelelement ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus: 1. zumindest einem ferroelektrischen Element zum Bereitstellen des besagten Feldes; 2. zumindest einem ferromagnetischen Element zum Bereitstellen des besagten Feldes; 3. zumindest einem piezoelektrischen Element zum Bereitstellen des besagten Feldes; 4. zumindest einem piezomagnetischen Element zum Bereitstellen des besagten Feldes; und ii. zumindest einem reflektierenden Element; und c. ein Steuergerät zum Steuern der besagten PMFCM; wobei besagte PMFCM und besagtes Steuergerät dazu ausgebildet sind, irgendeines von besagtem zumindest einem Koppel- und reflektierendem Element in vorbestimmter Weise anzupassen und dadurch besagtes PMF zum Induzieren einer therapeutischen oder regenerativen oder nützlichen Wirkung auf besagtes Subjekt bereitzustellen.</p> |
