发明名称 曝光系统及制造装置的方法
摘要 一种曝光系统包含曝光设备及一流体供给设备,其经由流动通道供给流体至该曝光设备。该流体供给设备包含一流体发送单元、一热交换器、一第一温度感应器,其量测该流体的温度、一过滤器,移除在流体中之不想要物质、及一加热器,安置在该流体供给设备的过滤器中之下游,用以调整该流体的温度。该曝光设备包含一第二温度感应器,其量测由该流体供给设备所供给之流体的温度。该加热器根据该第二温度感应器所量测得之温度,调整该流体的温度。
申请公布号 TWI399619 申请公布日期 2013.06.21
申请号 TW097119912 申请日期 2008.05.29
申请人 佳能股份有限公司 日本 发明人 冈田芳幸
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本