| 发明名称 |
用以在处理腔室内支撑、定位及旋转基板的设备与方法 |
| 摘要 |
本发明之实施例涵盖处理期间用来支撑、定位及旋转基板的方法、设备和系统。本发明之实施例还包括控制处理腔室内基板与基板支撑件间之热传的方法。在一或多个处理步骤期间，例如快速热处理(RTP)制程、化学气相沉积(CVD)制程、物理气相沉积(PVD)制程、原子层沉积(ALD)制程、乾蚀刻制程、湿式清洁制程及/或雷射退火处理，所述设备和方法不需复杂、昂贵又常不可靠的组件来正确定位及旋转基板。 |
| 申请公布号 |
TWI399826 |
申请公布日期 |
2013.06.21 |
| 申请号 |
TW098101845 |
申请日期 |
2009.01.17 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 美国 |
发明人 |
柯莫布莱克;雷奈亚历山大Ｎ;拉尼西乔瑟夫Ｍ;山见凯德南;索拉基库谢 |
| 分类号 |
H01L21/683;H01L21/68;H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/683 |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
