发明名称 |
铬合金靶材及具有硬质薄膜之金属材料 |
摘要 |
一种铬合金靶材,由铬及矽组成,或由铬及锗组成,其中铬所占之重量百分比为5%至95%,且当经由物理气相溅镀制程所产生之薄膜的厚度大于或等于2微米(μm)时,上述薄膜之威氏硬度(Vickers Hardness)值分别为Hv800至Hv1200及Hv800至Hv1000。上述之靶材可用来产生一种具有硬质薄膜之金属材料,此金属材料包含金属基板以及铬矽合金薄膜,或包含金属基板以及铬锗合金薄膜。 |
申请公布号 |
TWI399447 |
申请公布日期 |
2013.06.21 |
申请号 |
TW099110199 |
申请日期 |
2010.04.01 |
申请人 |
中国钢铁股份有限公司 高雄市小港区临海工业区中钢路1号 |
发明人 |
董寰乾;李至隆;邱军浩 |
分类号 |
C23C14/14;C23C14/16;C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/14 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
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地址 |
高雄市小港区临海工业区中钢路1号 |