发明名称 |
一种反应腔室以及应用该反应腔室的等离子体加工设备 |
摘要 |
一种反应腔室以及应用该反应腔室的等离子体加工设备,包括外腔室、内腔室以及气体输送管,所述内腔室设置在所述外腔室内,在所述内腔室和所述外腔室之间形成有气体通道,所述气体通道与外腔室的排气通道连通,所述气体输送管设置在所述内腔室内,在所述气体输送管上设有向所述内腔室输送工艺气体的进气口,在所述内腔室的室壁上设有排气口,其中,在所述排气口位置设有用于调节所述排气口大小的排气口调节单元,从而可以调节内腔室的温度分布,进而可以提高等离子体加工设备的可调性。 |
申请公布号 |
CN103160813A |
申请公布日期 |
2013.06.19 |
申请号 |
CN201110424577.1 |
申请日期 |
2011.12.14 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
王一帆 |
分类号 |
C23C16/52(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/52(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
彭瑞欣;张天舒 |
主权项 |
一种反应腔室,包括外腔室、内腔室以及气体输送管,所述内腔室设置在所述外腔室内,且在所述内腔室和所述外腔室之间形成有气体通道,所述气体通道与外腔室的排气通道连通,所述气体输送管设置在所述内腔室内,在所述气体输送管上设有向所述内腔室输送工艺气体的进气口,在所述内腔室的室壁上设有排气口,其特征在于,在所述排气口位置设有用于调节所述排气口大小的排气口调节单元。 |
地址 |
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |