发明名称 一种反应腔室以及应用该反应腔室的等离子体加工设备
摘要 一种反应腔室以及应用该反应腔室的等离子体加工设备,包括外腔室、内腔室以及气体输送管,所述内腔室设置在所述外腔室内,在所述内腔室和所述外腔室之间形成有气体通道,所述气体通道与外腔室的排气通道连通,所述气体输送管设置在所述内腔室内,在所述气体输送管上设有向所述内腔室输送工艺气体的进气口,在所述内腔室的室壁上设有排气口,其中,在所述排气口位置设有用于调节所述排气口大小的排气口调节单元,从而可以调节内腔室的温度分布,进而可以提高等离子体加工设备的可调性。
申请公布号 CN103160813A 申请公布日期 2013.06.19
申请号 CN201110424577.1 申请日期 2011.12.14
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 王一帆
分类号 C23C16/52(2006.01)I 主分类号 C23C16/52(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 彭瑞欣;张天舒
主权项 一种反应腔室,包括外腔室、内腔室以及气体输送管,所述内腔室设置在所述外腔室内,且在所述内腔室和所述外腔室之间形成有气体通道,所述气体通道与外腔室的排气通道连通,所述气体输送管设置在所述内腔室内,在所述气体输送管上设有向所述内腔室输送工艺气体的进气口,在所述内腔室的室壁上设有排气口,其特征在于,在所述排气口位置设有用于调节所述排气口大小的排气口调节单元。
地址 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
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