发明名称 |
一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材 |
摘要 |
本实用新型属于薄膜制备领域,具体地说是一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材。复合结构靶材为靶壳及磁性材料靶材构成,靶壳紧固于磁性材料靶材外围;其中,靶壳选用高磁导率的软磁性材料靶壳,靶壳上附加相同温度时饱和蒸气压和二次电子发射产额均低于磁性材料靶材的金属环或陶瓷相材料层所形成的环状复合结构。本实用新型解决了电弧离子镀难于沉积磁性材料涂层的难题,以及铁磁性靶材表面增加沟槽克服磁屏蔽时,降低了靶材使用寿命,难以在工业上应用的问题等,提出一种装置制作简单、成本低廉的复合结构靶材的设计思路,拓展了电弧离子镀的应用范围。 |
申请公布号 |
CN203007391U |
申请公布日期 |
2013.06.19 |
申请号 |
CN201320013457.7 |
申请日期 |
2013.01.10 |
申请人 |
中国科学院金属研究所 |
发明人 |
孙超;常正凯;肖金泉;宫骏 |
分类号 |
C23C14/32(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/32(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 |
代理人 |
张志伟 |
主权项 |
一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合靶材,其特征在于,复合结构靶材为靶壳及磁性材料靶材构成,靶壳紧固于磁性材料靶材外围;其中,靶壳选用高磁导率的软磁性材料靶壳,靶壳上附加相同温度时饱和蒸气压和二次电子发射产额均低于磁性材料靶材的金属环或陶瓷相材料层所形成的环状复合结构。 |
地址 |
110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 |