发明名称 |
一种静电喷射阵列系统的优化控制方法 |
摘要 |
一种静电喷射阵列系统的优化控制方法,属于静电喷射技术领域。包含有两个或两个以上静电喷射单元,特征在于:每个静电喷射单元包括一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生或注入开关(6),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体流量控制装置或液体输送开关(7);该静电喷射阵列系统还包括一个与电荷产生或注入开关(6)、液体流量控制装置或液体输送开关(7)相连的自动控制装置(4),该自动控制装置(4)通过以下方式之一或几种方式的组合实现开关模式即每个喷头的喷射的开关状态、时间和周期:控制电荷的产生或注入通路,或液体的流量,或液体输送通断来实现喷头。本发明具有实用性、喷射更均匀、能够在工业化生产上大规模使用的特点。 |
申请公布号 |
CN102211066B |
申请公布日期 |
2013.06.19 |
申请号 |
CN201110054077.3 |
申请日期 |
2011.03.08 |
申请人 |
顾文华 |
发明人 |
顾文华 |
分类号 |
B05B5/025(2006.01)I;B05B12/00(2006.01)I |
主分类号 |
B05B5/025(2006.01)I |
代理机构 |
南京经纬专利商标代理有限公司 32200 |
代理人 |
叶连生 |
主权项 |
一种静电喷射阵列系统的优化控制方法,其特征在于:利用以下静电喷射阵列系统,该系统包含有两个或两个以上静电喷射单元,其中每个静电喷射单元包含一个独立的静电喷射喷头(1),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生和注入装置(2),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体存储和输运装置(3),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的喷射基底(5),其特征在于:每个静电喷射单元包括一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生或注入开关(6),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体流量控制装置或液体输送开关(7);该静电喷射阵列系统还包括一个与电荷产生或注入开关(6)、液体流量控制装置或液体输送开关(7)相连的自动控制装置(4);通过控制每个喷射单元开关模式即每个喷头的喷射的开关状态、时间和周期,实现每个喷头的静电喷射的独立控制;并通过调整相邻喷头之间喷射时间上的相对关系,或者同时调整相邻喷头之间喷射时间上的相对关系与空间上的相对位置,使得每个喷头在喷射期间相邻喷头对它产生的影响最小,从而最大限度地解决相邻喷头之间的干扰问题;具体控制手段是利用上述自动控制装置(4)通过第一方式,或第一方式与第二方式的组合,或第一方式与第三方式的组合,或第一方式与第二方式、第三方式的组合实现;上述第一方式是指控制每个静电喷射单元的电荷的产生或注入通路;上述第二方式是指控制液体的流量;上述第三方式是指控制液体输送通断。 |
地址 |
210016 江苏省南京市白下区御道街29号 |