TFT阵列基板及其制造方法、显示装置

摘要

本发明属于显示技术领域，公开了一种TFT阵列基板及其制造方法、显示装置，仅通过一次构图工艺形成钝化层过孔的图案，然后在该构图工艺的光刻胶剥离过程中形成遮光片的图案，克服了阵列基板的构图工艺中由于曝光量过大对薄膜晶体管有源层的损坏，大大降低了在阵列基板上形成彩色滤光片的成本，保证了TFT的特性，进而不会影响显示装置的显示品质。

主权项

一种TFT阵列基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、在一衬底基板上形成薄膜晶体管；S2、在完成步骤S1的衬底基板上形成钝化层薄膜；S3、在完成步骤S2的衬底基板上形成包括钝化层过孔和遮光片的图案；S4、在完成步骤S3的衬底基板上形成彩色滤光片图案和像素电极图案，所述像素电极通过所述钝化层过孔与所述薄膜晶体管的漏电极电连接，所述彩色滤光片与所述像素电极的位置对应。