发明名称 一种制作微透镜或微透镜阵列的方法
摘要 本发明涉及光学元件领域,公开了一种制作微透镜或微透镜阵列的方法,首先采用光刻法在光学基板表面刻蚀需要的孔或槽阵列,然后在刻蚀的孔或槽阵列中注入相应重量的SiO2气溶胶;或者先在光学基板表面非刻蚀区域镀一层与SiO2气溶胶非浸润的膜层,然后再注入SiO2气溶胶;利用SiO2气溶胶与光学基板材料浸润的表面张力形成凹透镜、凹柱面镜等,或是利用SiO2气溶胶与膜层非浸润的表面收缩力形成凸透镜、凸柱面镜等,该方法工艺简单,成本低,并可大规模快速制作。
申请公布号 CN103163573A 申请公布日期 2013.06.19
申请号 CN201110423132.1 申请日期 2011.12.16
申请人 福州高意光学有限公司 发明人 吴砺;林磊;贺坤;赵振宇;陈燕平
分类号 G02B3/00(2006.01)I 主分类号 G02B3/00(2006.01)I
代理机构 福建炼海律师事务所 35215 代理人 许育辉
主权项 一种制作微透镜或微透镜阵列的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)采用光刻法在光学基板表面刻蚀孔或槽阵列;(2)在孔或槽阵列中注入相应重量的SiO2气溶胶,所述光学基板材料为可与SiO2气溶胶浸润的材料,SiO2气溶胶与光学基板浸润,表面形成凹面或凹柱面;(3)固化SiO2气溶胶。
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