发明名称 |
图案数据的处理方法以及电子器件的制造方法 |
摘要 |
一种用于掩膜图案的数据处理方法。所述方法包括分析掩膜图案的数据(SF),并且根据掩膜图案指定具有预定形状和预定尺寸的图案区域(BD)。所述图案区域(BD)用作对准标记。 |
申请公布号 |
CN101689028B |
申请公布日期 |
2013.06.19 |
申请号 |
CN200880022043.2 |
申请日期 |
2008.04.21 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
白石直正 |
分类号 |
G03F1/42(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/42(2012.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
朱胜;杨红梅 |
主权项 |
一种用于处理掩膜图案的设计数据的图案数据处理方法,所述方法包括:从所述掩膜图案的设计数据中提取预定区域,其中所述预定区域在第一方向上的尺寸大于或者等于第一参考值且在与所述第一方向交叉的方向上的尺寸大于或者等于第二参考值,以及指定所提取的所述预定区域作为用于位置测量的图案区域,当被曝光并且被转移到曝光体上时所述预定区域具有大于或等于位置测量系统的分辨率的尺寸。 |
地址 |
日本东京都 |