发明名称 评估装置及评估方法
摘要 评估装置(1)使测光件(42)旋转成测光件(42)的透射轴的方位相对偏光件(32)的透射轴成为90度±3度的倾斜角度,以各条件由摄影机(44)拍摄晶圆(10)的正反射像,影像处理部(50),是根据通过摄影机(44)拍摄的两片晶圆(10)的影像,评估反复图案的形状以检测剂量不良及聚焦不良。
申请公布号 CN102203589B 申请公布日期 2013.06.19
申请号 CN200980143039.6 申请日期 2009.11.09
申请人 株式会社尼康 发明人 深泽和彦;工藤祐司
分类号 G01N21/956(2006.01)I 主分类号 G01N21/956(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 任默闻
主权项 一种评估装置,其具备:照明部,对具有使用曝光装置而形成的既定反复图案的基板表面照射直线偏光;测光件,从被照射该直线偏光的该反复图案反射的椭圆偏光的正反射光中抽出振动方向与该直线偏光不同的偏光成分;摄影部,拍摄基于该测光件所抽出的该偏光成分的该基板的正反射像;设定部,设定该直线偏光的振动方向与该偏光成分的振动方向之间的角度条件、或该直线偏光的振动方向与该反复图案的反复方向之间的角度条件;以及评估部,根据以该摄影部拍摄的该正反射像的影像,评估该曝光装置的曝光量和聚焦;该摄影部,分别拍摄在通过该设定部设定的该直线偏光的振动方向与该偏光成分的振动方向之间的多个角度条件、或该直线偏光的振动方向与该反复图案的反复方向之间的多个角度条件下所取得的该正反射像;该评估部,从以该摄影部拍摄的多个该正反射像的影像求出基于该正反射光的椭圆偏光的长轴的倾斜的信号强度,根据该信号强度判别该反复图案的形成所曝光的该曝光装置的曝光量和聚焦、或判别因该曝光装置的曝光量所引起的该反复图案的形状与该曝光装置的聚焦所引起的该反复图案的形状来进行评估。
地址 日本东京都