| 发明名称 | 清洗制造有机EL器件的气相沉积掩模的方法及清洗液 | ||
| 摘要 | 本申请公开了一种用于清洗有机EL掩模的方法，所述方法包括以下步骤：(A)在洁净的腔室内提供四氢呋喃(THF)溶液；(B)将有机EL掩模浸泡在THF溶液中；(C)超声清洗浸泡在THF溶液中的有机EL掩模；以及(D)用去离子水漂洗清洗后的有机EL掩模。本申请还公开了一种用于有机EL掩模的清洗液，所述清洗液包括四氢呋喃和异丙醇。 | ||
| 申请公布号 | CN103157619A | 申请公布日期 | 2013.06.19 |
| 申请号 | CN201210459063.4 | 申请日期 | 2012.11.14 |
| 申请人 | 东友 FINE-CHEM 股份有限公司 | 发明人 | 李殷相;金佑逸;金炳默;洪宪杓 |
| 分类号 | B08B3/04(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;C11D7/60(2006.01)I;C11D7/50(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人 | 徐川;张颖玲 |
| 主权项 | 一种用于清洗有机EL掩模的方法，所述方法包括以下步骤：(A)在洁净的腔室内提供四氢呋喃THF溶液；(B)将所述有机EL掩模浸泡在所述THF溶液中；(C)超声清洗浸泡在所述THF溶液中的所述有机EL掩模；以及(D)用去离子水漂洗清洗后的所述有机EL掩模。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||