发明名称 三维测量装置
摘要 本发明提供一种三维测量装置,其中,在采用相移法而进行三维测量时,能谋求测量精度的提高,并且能谋求测量时间的缩短。基板检查装置包括:对印刷电路板照射条纹状的光图案的照射装置;对其摄像的照相机;根据图像数据进行三维测量的控制装置。照射装置包括光源与液晶快门,该液晶快门形成用于将该光变换为条纹状的光图案的光栅。控制装置在第1照射装置的第1光图案的条件下进行第1摄像处理,在其结束的同时,开始液晶快门的光栅切换,在不等待该光栅切换完成的情况下,在第2照射装置的第2光图案的条件下进行第2摄像处理,在其结束的同时,开始液晶快门的光栅切换,在不等待该光栅切换完成的情况下,进行下一第1摄像处理。
申请公布号 CN103162641A 申请公布日期 2013.06.19
申请号 CN201210132207.5 申请日期 2012.04.27
申请人 CKD株式会社 发明人 梅村信行;间宫高弘;石垣裕之
分类号 G01B11/25(2006.01)I 主分类号 G01B11/25(2006.01)I
代理机构 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人 刘激扬
主权项 一种三维测量装置,其包括:第1照射机构,该第1照射机构具有发出规定的光的第1光源与第1光栅,该第1光栅将来自该第1光源的光变换为具有条纹状的光强度分布的第1光图案,该第1照射机构能将该第1光图案从第1位置照射到被测量物;第1光栅控制机构,该第1光栅控制机构控制上述第1光栅的移送或切换,多次地改变从上述第1照射机构照射的上述第1光图案的相位;第2照射机构,该第2照射机构具有发出规定的光的第2光源与第2光栅,该第2光栅将来自该第2光源的光变换为具有条纹状的光强度分布的第2光图案,该第2照射机构能将该第2光图案从不同于上述第1位置的第2位置照射到被测量物;第2光栅控制机构,该第2光栅控制机构控制上述第2光栅的移送或切换,多次地改变从上述第2照射机构照射的上述第2光图案的相位;摄像机构,该摄像机构能对反射光进行摄像,该反射光来自照射了上述第1光图案或第2光图案的上述被测量物;图像处理机构,该图像处理机构依据多个图像数据通过相移法进行三维测量,该多个图像数据依据相位多次发生变化的上述第1光图案或第2光图案的照射而获得,其特征在于,进行第1摄像处理或第2摄像处理中的一个摄像处理,在上述其中一个摄像处理结束的同时,开始进行该一个摄像处理相关的上述第1光栅或上述第2光栅的移送或切换处理,能在不等待上述移送或切换处理完成的情况下,进行上述两 个摄像处理中的另一摄像处理,上述第1摄像处理为,照射上述相位不同的多个第1光图案而进行的多次摄像处理中的一次,上述第2摄像处理为,照射上述相位不同的多个第2光图案而进行的多次摄像处理中的一次。
地址 日本国爱知县