发明名称 半导体场效应晶体管的测试方法及测试结构
摘要 本发明公开了一种半导体场效应晶体管MOSFET的测试结构,由测试平台通过从MOSFET引出的焊垫对MOSFET进行测试,该结构包括:MOSFET和金属引线,还包括:两个源极pad:分别通过金属引线连接至MOSFET的两个源极;一个漏极pad,通过金属引线连接至MOSFET的漏极;一个栅极pad,通过金属引线连接至MOSFET的栅极;一个电压感应pad,通过金属引线连接至MOSFET的漏极。本发明还提供了一种MOSFET的测试方法,所述测试结构及测试方法提高了MOSFET测试准确性。
申请公布号 CN102339814B 申请公布日期 2013.06.19
申请号 CN201010229225.6 申请日期 2010.07.16
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 邵芳
分类号 H01L23/544(2006.01)I;G01R31/26(2006.01)I 主分类号 H01L23/544(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种半导体场效应晶体管MOSFET的测试结构,由测试平台通过与MOSFET连接的焊垫pad对MOSFET进行测试,该结构包括:MOSFET和金属引线,其特征在于,还包括:两个源极pad:分别通过金属引线连接至MOSFET的两个源极;一个漏极pad,通过金属引线连接至MOSFET的漏极;一个栅极pad,通过金属引线连接至MOSFET的栅极。一个电压感应pad,通过金属引线连接至MOSFET的漏极,用于感应测试时漏极的真实电压。
地址 201203 上海市张江路18号