发明名称 一种超级结MOSFET
摘要 本实用新型提出了一种超级结MOSFET结构,其包括形成在衬底上的元胞区和包围所述元胞区的终端区,所述元胞区内和终端区内分别形成有间距相等的直条型沟槽,所述沟槽内形成有第一导电类型的第一外延层,所述沟槽之间为第二导电类型的第二外延层,所述终端区的沟槽沿从外向里的方向的排布方式一致。本实用新型的超级结MOSFET沿从终端区向元胞区的方向上,终端区各边的沟槽排布方式一致,即终端区各边的沟槽都沿从外向里的方向垂直排布,或终端区各边的沟槽都沿从外向里的方向平行排布。终端区各边的沟槽排布方式一致,使该超级结MOSFET的高压大电流的泄放在各边是平均的,泄流通道更大,泄流能力就更强。
申请公布号 CN203013734U 申请公布日期 2013.06.19
申请号 CN201220611579.1 申请日期 2012.11.19
申请人 宁波比亚迪半导体有限公司 发明人 钟树理;朱超群;万祎;曾爱平;陈宇
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种超级结MOSFET结构,其特征在于,包括元胞区和终端区,所述终端区包围所述元胞区,所述元胞区内和终端区内分别形成有间距相等的直条型沟槽,所述沟槽内形成有第一导电类型的第一外延层,所述沟槽之间为第二导电类型的第二外延层,所述终端区各边的沟槽沿从外向里的方向的排布方式一致,所述第一导电类型为n型掺杂,所述第二导电类型为p型掺杂。
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