一种基于受激发射损耗的超分辨荧光寿命成像方法和装置

摘要

本发明公开了一种基于受激发射损耗的超分辨荧光寿命成像方法，包括以下步骤：1)将第一激光光束投射到待测样品上，待测样品中的粒子由基态激活至激发态；2)用STED光消耗步骤1)中处于激发态的粒子的数量；3)用于第二激光光束激发剩余的粒子发出荧光，并收集荧光得到相应的荧光强度图像；4)第二激光光束和STED光之间设有延迟，改变延迟时间，重复步骤3)，得到不同延迟时间下的荧光强度图像；5)通过计算机对不同延迟时间下的荧光强度图像进行处理，并拟合光点强度衰减规律，反演寿命图像，完成对待测样品一点的扫描6)通过改变光束投射到待测样品上的位置，完成对待测样品的二维扫描。本发明还公开了一种用于实施上述方法的装置。

主权项

一种基于受激发射损耗的超分辨荧光寿命成像方法，其特征在于，包括以下几个步骤：1)将第一激光光束投射到待测样品上，待测样品中的粒子由基态激活至激发态；2)用STED光投射到待测样品上，消耗步骤1)中处于激发态的粒子的数量；3)将第二激光光束投射到荧光样品上，激发剩余的处于激发态的粒子发出荧光，并收集所述荧光得到相应的荧光强度图像；4)第二激光光束和STED光之间设有延迟，改变延迟时间，重复步骤3)，得到不同延迟时间下的荧光强度图像；5)通过计算机对不同延迟时间下的荧光强度图像进行处理，并拟合光点强度衰减规律，反演寿命图像，完成对待测样品一点的扫描；6)通过改变第一激光光束、STED光和第二激光光束聚焦到待测样品上的位置，完成对待测样品的二维扫描。