| 发明名称 | 清洗机摆动喷淋装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及半导体工业领域，尤其涉及一种用于晶片清洗的清洗机摆动喷淋装置。本实用新型提供的清洗机摆动喷淋装置包括喷淋臂、喷头和驱动装置，所述喷头与所述喷淋臂铰接形成第一铰接处，所述喷头在驱动装置控制下摆动。所述驱动装置为气缸，所述气缸的活塞杆与所述喷头铰接形成第二铰接处。采用本实用新型的清洗机摆动喷淋装置使晶片中心位置和边缘位置都有很好的清洗效果。 | ||
| 申请公布号 | CN203002676U | 申请公布日期 | 2013.06.19 |
| 申请号 | CN201220696491.4 | 申请日期 | 2012.12.14 |
| 申请人 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 发明人 | 史彦慧;吴仪 |
| 分类号 | B08B3/02(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 韩国胜 |
| 主权项 | 一种清洗机摆动喷淋装置，其特征在于，所述清洗机摆动喷淋装置包括喷淋臂（1）、喷头（2）和驱动装置，所述喷头（2）与所述喷淋臂（1）连接，所述喷头（2）在驱动装置控制下摆动。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层 | ||