光学系统及激光熔覆设备

摘要

本实用新型实施例提供的一种光学系统，用于激光熔覆，包括：半导体模块组，包括至少两个半导体模块，用于产生激光光源；传输光纤组，包括至少两根光纤，光纤用于耦合传输所述激光；准直阵列，包括至少两个光学准直透镜，光学准直透镜准直经所述光纤的激光；聚焦透镜，用于聚焦准直后的激光；半导体模块、光纤及光学准直透镜数量相等，且分别沿激光的传播方向对应设置。该光学系统体积紧凑，经该光学系统形成的聚焦光斑能量分布均匀，提高了熔覆均匀性。另外，本实用新型还提供了一种激光熔覆设备。

主权项

一种光学系统，用于激光熔覆，其特征在于，包括：半导体模块组，包括至少两个半导体模块，用于产生激光光源；传输光纤组，包括至少两根光纤，所述光纤用于耦合传输所述激光；准直阵列，包括至少两个光学准直透镜，所述光学准直透镜准直经所述光纤的激光；及聚焦透镜，用于聚焦准直后的所述激光；所述半导体模块、光纤及光学准直透镜数量相等，且分别沿所述激光的传播方向对应设置。