发明名称 分析装置及模拟方法
摘要 本发明提供一种分析装置及模拟方法,其生成更稳定的系统作为记述具有规定形状的对象的系统。一种分析装置(100),分析具有规定形状的对象。分析装置(100)具备:前置生成部(150),生成包含多个粒子的系统;区域指定部(112),在通过前置生成部(150)生成的系统中指定具有规定形状的区域作为记述对象的系统;及数值运算部(120),对支配记述对象的系统的各粒子的运动的支配方程式进行数值运算。
申请公布号 CN103164589A 申请公布日期 2013.06.19
申请号 CN201110406427.8 申请日期 2011.12.08
申请人 住友重机械工业株式会社 发明人 大西良孝
分类号 G06F19/00(2006.01)I 主分类号 G06F19/00(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 胡建新
主权项 一种分析装置,其分析具有规定形状的对象,其特征在于,具备:前置生成部,生成包含多个粒子的系统;区域指定部,作为记述所述对象的系统,在通过所述前置生成部生成的系统中指定具有所述规定形状的区域;及数值运算部,对支配记述所述对象的系统的各粒子的运动的支配方程式进行数值运算。
地址 日本东京都