| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Hartstoffschicht (2) auf einem Substrat (1), wobei eine TiCNB Hartstoffschicht durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) aus einem Gassystem umfassend einen Titanträger, einen Borträger, mindestens einen Stickstoffträger und mindestens einen Kohlenstoffträger abgeschieden wird, wobei der Kohlenstoffträger ein Alkan mit mindestens zwei C-Atomen, ein Alken oder ein Alkin umfasst. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung ein Zerspanwerkzeug mit einem Substrat (1), auf welchem eine TiCNB Hartstoffschicht (2) aufgebracht ist, wobei das Verhältnis der Kohlenstoffatome (C) zu den Stickstoffatomen (N) in dem auf dem Substrat abgeschiedenen TiCxNyB1-x-y System 0,70 =, X = 1,0, bevorzugt 0,75 = X = 0,85, ist, wobei das Schliffbild durch Substrat und Hartstoffschicht nach einer Murakami-Ätzung im Wesentlichen frei von einer Eta-Phase ist. |
