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<p>Es wird ein Infrarotstrahlung reflektierendes transparentes Schichtsystem auf einem transparenten, dielektrischen Substrat S0, ein Verfahren zu dessen Herstellung und eine Glaseinheit unter Verwendung eines solchen Schichtsystems angegeben, welches vom Substrat S0 aufwärts betrachtet eine Grundschichtanordnung GA mit einer dielektrischen Grundschicht GAG, einer darüber liegenden Funktionsschichtanordnung UFA mit einer metallischen Funktionsschicht UFAF und einer Blockerschicht UFAB und eine Deckschichtanordnung DA umfasst. Um die gleiche Farberscheinung für ein solches Schichtsystem unabhängig vom Betrachtungswinkel zu erzielen, wird eine Zwischenschichtanordnung ZA mit einer solchen Dicke abgeschieden, dass bei einem Betrachtungswinkel im Bereich von 0 bis ± 75°, bezogen auf die Normale der Substratoberfläche, die a* (Rg) - und b* (Rg) -Farbwerte des CIE L*a*b*-Farbsystem der substratseitigen Reflexion im Bereich von <= 0 liegen.</p> |
