发明名称 |
去除抗蚀剂的方法和装置 |
摘要 |
抗蚀剂去除设备1在防止爆裂现象发生的同时去除基板上的抗蚀剂,同时降低抗蚀剂去除时的能源成本并使装置构造简化。该抗蚀剂去除设备1配备有用来容纳基板16(例如具有高剂量离子注入抗蚀剂的基板)的腔体2,在低于大气压的压力下,将臭氧气体、不饱和烃气体和水蒸汽供应给该腔体2。上述臭氧气体可以是由含有臭氧的气体借助蒸汽压力差仅使臭氧发生液化分离然后再气化而得到的超高浓度臭氧气体。为了清洗经上述处理的基板16,可以供给超纯水。腔体2配备有用于支持基板16的基座15。基座15被加热到100℃以下的温度。加热上述基座的装置例如可以是发射红外线的光源4。 |
申请公布号 |
CN101715601B |
申请公布日期 |
2013.06.12 |
申请号 |
CN200880017047.1 |
申请日期 |
2008.05.08 |
申请人 |
株式会社明电舍 |
发明人 |
三浦敏德 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
柳冀 |
主权项 |
从基板上去除抗蚀剂的方法,其包含:将该基板放置在一腔体中;造成并保持该腔体内部低于大气压;将不饱和烃供应给该腔体内部;将臭氧气体供应给该腔体内部;将水蒸汽供应给该腔体内部;将臭氧气体、不饱和烃和水蒸汽向该腔体中的供应停止;以及使用纯水清洗该基板。 |
地址 |
日本东京 |