含钼靶材

摘要

本发明涉及包括50原子%或更多钼、第二金属元素钛及第三金属元素铬或钽的溅射靶材，以及由所述溅射靶材制造的沉积膜。在本发明的优选方面，所述溅射靶材包括一富钼相、一富钛相及一富第三金属元素相。

主权项

一种溅射靶材，包括：i)占所述溅射靶材原子总数大约40原子%或更多的钼；ii)占所述溅射靶材原子总数大约1原子%或更多的钛；及iii)占所述溅射靶材原子总数大约1原子%或更多的第三金属元素，其中所述第三金属元素是钽或铬；因此所述溅射靶材可用于制造含有合金的沉积膜，所述合金包括钼、钛和第三金属元素。