发明名称 |
适于与外涂敷的光刻胶一起使用的涂料组合物 |
摘要 |
提供了能用水性碱显影剂显影(包括在外涂敷的光刻胶层的显影过程中的单一步骤)的有机涂料组合物,特别是减反射涂料组合物。优选的涂料组合物包括具有至少四个不同的官能团的四元聚合物。 |
申请公布号 |
CN101900943B |
申请公布日期 |
2013.06.12 |
申请号 |
CN201010119475.4 |
申请日期 |
2010.02.08 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司;国际商业机器有限公司 |
发明人 |
J·F·卡梅隆;J·W·宋;J·P·阿马拉;G·P·普罗科波维奇;D·A·瓦莱里;L·维克里克;W-S·S·黄;W·李;P·R·瓦拉纳斯;I·Y·波波瓦 |
分类号 |
G03F7/09(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;C09D135/00(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;C08L35/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/09(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
陈哲锋 |
主权项 |
一种形成光刻胶浮雕图像的方法,所述方法包括:(a)在基材上施加组合物的涂层,所述组合物包括四元聚合物,所述四元聚合物包括马来酰亚胺、甲基丙烯酸9‑蒽甲酯、2‑甲基‑丙烯酸6‑羟基萘‑2‑甲酯和甲基丙烯酸叔丁酯的聚合单元;(b)在所述组合物的涂层上施加光刻胶层;(c)将施加的光刻胶层暴露于成像辐照;然后(d)用水性碱显影剂组合物显影,所述显影剂组合物选择性除去图像中的光刻胶层和底涂的组合物的涂层,所述图像是通过成像辐照在光刻胶层中限定的图像。 |
地址 |
美国马萨诸塞州 |