发明名称 |
利用大气压辉光放电在光纤内沉积薄膜的方法及装置 |
摘要 |
本发明涉及利用大气压辉光放电在光纤内沉积薄膜的方法及装置,其采用在光纤的外壁上均匀缠绕高压低压相间的电极,使用氟碳气体,在大气压条件下,以光纤管内壁作为沉积基底,在光纤管内壁沉积氟碳薄膜,以提高光纤的传输效率和抗氧化。本发明利用介质阻挡放电等离子体沉积薄膜,具有其独特的优势:放电方式简单,设备成本低;气体体积小,气体流量低;能耗低。 |
申请公布号 |
CN102351439B |
申请公布日期 |
2013.06.12 |
申请号 |
CN201110205883.6 |
申请日期 |
2011.07.22 |
申请人 |
大连民族学院 |
发明人 |
刘东平 |
分类号 |
C03C25/22(2006.01)I;C03C25/42(2006.01)I |
主分类号 |
C03C25/22(2006.01)I |
代理机构 |
大连东方专利代理有限责任公司 21212 |
代理人 |
陈红燕 |
主权项 |
一种利用大气压辉光放电在光纤内沉积薄膜的方法,包括如下步骤:(1)分别将多个高压电极和多个低压电极按高压低压相间的顺序缠绕在光纤管外壁上,相邻的高压和低压电极之间的距离为3‑6cm;(2)沉积前,将氦气作为放电气体,自入气口通入光纤管内,在大气压条件下放电10‑15min,清洗光纤内壁;(3)将氦气和C4F8的混合气体自入气口通入并充满光纤管内,放电15‑25min,在所述光纤管内产生等离子体,以实现在光纤管内沉积1‑10μm的氟碳薄膜,多余的气体由出气口排入排气管道内;其中,放电电源为5‑15KHz的正弦波高压放电电源,其峰峰值为18‑28KV;混合气体中,C4F8占氦气的质量比为大于0,不大于5%;所述入气口与气体质量流量控制器连接,氦气和C4F8分别经气体质量流量控制器通入光纤管内,由所述质量流量控制器控制气体的流速。 |
地址 |
116600 辽宁省大连市金州新区辽河西路18号 |