发明名称 |
基于深刻蚀透射式石英光栅的啁啾控制装置 |
摘要 |
一种基于深刻蚀透射式石英光栅的啁啾控制装置,包括一对平行放置的高密度、深刻蚀、透射式熔融石英光栅对和一块二次非球面反射镜,所述的深刻蚀透射式石英光栅的周期为750nm,刻蚀深度为1900nm,占空比为0.6。本发明结构通过引入较强的空间啁啾,可以使光栅表面承载的激光功率密度大幅降低,同时可以保证在凹面反射镜焦点处获得超高能量超短脉冲的激光光场。本发明用于啁啾控制具有结构简单、高的激光破坏阈值、光谱范围宽(100纳米)和衍射效率高等优点。 |
申请公布号 |
CN102360147B |
申请公布日期 |
2013.06.12 |
申请号 |
CN201110298062.1 |
申请日期 |
2011.09.28 |
申请人 |
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
发明人 |
贾伟;周常河 |
分类号 |
G02F1/35(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G02B5/10(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/35(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
张泽纯 |
主权项 |
一种基于深刻蚀透射式石英光栅的啁啾控制装置,特征在于其构成包括一对平行放置的深刻蚀透射式石英光栅(2、3)和一块无像差的二次非球面反射镜(5),所述的深刻蚀透射式石英光栅的周期为750nm,刻蚀深度为1900nm,占空比为0.6。 |
地址 |
201800 上海市嘉定区800-211邮政信箱 |