发明名称 光波导及其制造方法
摘要 本发明提供一种光波导,其为在含有无机填充材料的树脂基板上,至少依次层叠有紫外线吸收层、下部包层、图形化的芯层以及上部包层的光波导,其特征在于,芯层的图形化是通过曝光和显影来进行的,并且,紫外线吸收层的厚度为10~50μm。本发明还提供一种光波导的制造方法,其具有:在含有无机填充材料的树脂基板上形成紫外线吸收层的工序;在该紫外线吸收层上形成下部包层的工序;在下部包层上形成芯层的工序;对芯层曝光来转印规定形状的图形的工序;进行显影来形成芯图形的工序;以及在该图形化的芯层上形成上部包层的工序。根据本发明能够制造具有高分辨率芯图形的光波导。
申请公布号 CN101903814B 申请公布日期 2013.06.12
申请号 CN200880121017.5 申请日期 2008.12.11
申请人 日立化成株式会社 发明人 山口正利;柴田智章;大桥武志;高桥敦之
分类号 G02B6/122(2006.01)I 主分类号 G02B6/122(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶
主权项 一种光波导,其为在含有无机填充材料的树脂基板上至少依次层叠有紫外线吸收层、下部包层、图形化的芯层以及上部包层的光波导,其特征在于,芯层的图形化是通过曝光和显影来进行的,并且,紫外线吸收层的厚度为10~50μm,所述紫外线吸收层由感光性树脂组合物构成,所述感光性树脂组合物含有(A)具有羧基的热塑性聚合物、(B)分子内具有能聚合的乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物以及(C)光聚合引发剂,其中,所述(B)光聚合性化合物包含含有乙烯性不饱和基团的氨基甲酸酯化合物,所述含有乙烯性不饱和基团的氨基甲酸酯化合物是通过使在两末端具有异氰酸酯基的氨基甲酸酯化合物与含有羟基的乙烯性不饱和化合物进行反应而得到,并且,该两末端具有异氰酸酯基的氨基甲酸酯化合物是通过使两末端具有羟基的聚碳酸酯化合物和二异氰酸酯化合物进行反应来得到。
地址 日本东京都千代田区丸内一丁目9番2号