发明名称 玻璃基板的制造方法以及玻璃基板
摘要 本发明提供一种通过下拉法直接制造可以用于低温p-SiTFT基板用途的玻璃基板的方法、以及利用该方法得到的玻璃基板。该玻璃基板的制造方法包括下述工序:成型工序,其利用下拉法将熔融玻璃成型为带状;退火工序,其对玻璃带进行退火;以及切割工序,其切割玻璃带而得到玻璃基板,该玻璃基板的制造方法的特征在于:在退火工序中,使得从退火点至(退火点-50℃)为止的平均冷却速度与从(退火点+100℃)至退火点为止的平均冷却速度相比较低。
申请公布号 CN101925546B 申请公布日期 2013.06.12
申请号 CN200980102731.4 申请日期 2009.01.19
申请人 日本电气硝子株式会社 发明人 加藤嘉成;松木栄司
分类号 C03B17/06(2006.01)I;C03C3/091(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I 主分类号 C03B17/06(2006.01)I
代理机构 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 代理人 陈波;杨本良
主权项 一种玻璃基板的制造方法,包括下述工序:成型工序,其利用下拉法将熔融玻璃成型为带状;退火工序,其对玻璃带进行退火;以及切割工序,其对玻璃带进行切割,从而得到玻璃基板,该玻璃基板的制造方法的特征在于,在所述退火工序中,使得从退火点至比退火点低50℃的温度为止的平均冷却速度低于从比退火点高100℃的温度至退火点为止的平均冷却速度。
地址 日本滋贺县