| 发明名称 | 气相生长装置 | ||
| 摘要 | 包括能够防止滚动构件滚上相邻的滚动构件的自转公转机构的气相生长装置。该气相生长装置包括自转公转构造，该自转公转构造在利用加热部件加热并且利用驱动部件驱动进行旋转的基座（11）上，沿着该基座的周向隔着滚动构件（滚珠（22、23））以能旋转的方式设置多个基板保持构件（21），使上述基板保持构件随着上述基座的旋转而旋转，使保持于该基板保持构件的基板（12）一边自转一边相对于基座的旋转轴公转，其中，作为上述滚动构件，交替地配置直径不同的滚动构件（大径滚珠（22）和小径滚珠（23））。 | ||
| 申请公布号 | CN103154315A | 申请公布日期 | 2013.06.12 |
| 申请号 | CN201280003331.X | 申请日期 | 2012.01.18 |
| 申请人 | 大阳日酸株式会社;大阳日酸EMC株式会社 | 发明人 | 池永和正;内山康右 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 一种气相生长装置，其包括自转公转构造，该自转公转构造在利用加热部件加热并且利用驱动部件驱动进行旋转的基座上，沿着该基座的周向隔着滚动构件以能旋转的方式设置多个基板保持构件，使上述基板保持构件随着上述基座的旋转而旋转，使保持于该基板保持构件的基板一边自转一边相对于基座的旋转轴公转，其中，作为上述滚动构件，交替地配置直径不同的滚动构件。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||