发明名称 用于测量超连续谱光源光束质量的测量装置和方法
摘要 本发明涉及超连续谱光源光束质量的测量技术,提供一种用于测量超连续谱光源光束质量的测量装置和方法。测量装置包括光谱仪、反射镜、宽波段分光棱镜、近场面阵CCD、远场面阵CCD和用于处理测量信息的计算机。测量方法包括:使用光谱仪对超连续谱光源的光谱进行测量,根据测量结果求得光谱重心;使用面阵CCD对近场光场分布以及远场光场分布进行测量,求得近场光斑半径与远场发散角;构造理想高斯基模光束,计算SC-M2因子,使用SC-M2因子对超连续谱光源光束质量进行评价。本发明可以对宽光谱超连续谱光源的光束质量进行整体评价,而不是仅仅对光源中某些光谱成分的光束质量进行评价与测量。
申请公布号 CN103148941A 申请公布日期 2013.06.12
申请号 CN201310074755.1 申请日期 2013.03.10
申请人 中国人民解放军国防科学技术大学 发明人 靳爱军;侯静;张斌;陈胜平;王泽锋;刘文广;姜宗福
分类号 G01J3/28(2006.01)I 主分类号 G01J3/28(2006.01)I
代理机构 国防科技大学专利服务中心 43202 代理人 李振
主权项 一种用于测量超连续谱光源光束质量的测量装置,其特征在于:包括光谱仪(2)、反射镜(3)、宽波段分光棱镜(4)、近场面阵CCD(5)、远场面阵CCD(6)和用于处理测量信息的计算机(7);所述光谱仪(2)用于测量所述超连续谱光源的光谱;所述超连续谱光源输出的超连续谱光束经反射镜(3)进行准直扩束,再经过宽波段分光棱镜(4)进行分光得到反射光束和透射光束,所述反射光束由近场面阵CCD(5)测量近场光场分布,所述透射光束由远场面阵CCD(6)测量远场光场分布;所述远场面阵CCD(6)距离所述反射镜(3)的距离大于所述超连续谱光源光束的瑞利距离;所述计算机(7)根据所述超连续谱光源的光谱、所述近场光场分布和所述远场光场分布计算得到测量结果。
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