| 发明名称 | 制造置换型金属栅极器件的方法 | ||
| 摘要 | 一种用于抛光多个介电层以形成置换型金属栅极结构的方法包括第一化学机械抛光步骤，该步骤去除过载物并平坦化顶层，以在栅极结构之上留下经平坦化的厚度。第二化学机械抛光步骤包括使用浆料去除该厚度，以将栅极结构的电介质的下面受覆盖的表面暴露，所述浆料被配置为基本上相等地抛光所述顶层和所述下面受覆盖的表面以完成平坦的形貌。采用第三化学机械抛光步骤去除栅极结构的电介质并暴露栅极导体。 | ||
| 申请公布号 | CN103155122A | 申请公布日期 | 2013.06.12 |
| 申请号 | CN201180048114.8 | 申请日期 | 2011.10.03 |
| 申请人 | 国际商业机器公司;JSR株式会社 | 发明人 | 安藤崇志;L·查恩斯;J·康明斯;J·J·胡卡;D·R·科里;金野智久;M·克里希南;M·F·罗法洛;J·那拉克斯基;野田昌宏;D·K·潘尼加拉帕提;山中达也 |
| 分类号 | H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/336(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 于静;张亚非 |
| 主权项 | 一种用于抛光以形成置换型金属栅极结构的方法，包括：第一化学机械抛光步骤，去除过载物并平坦化顶层，以在栅极结构之上留下经平坦化的厚度；第二化学机械抛光步骤，包括使用浆料去除所述经平坦化的厚度以将所述栅极结构的电介质的下面受覆盖的表面暴露，所述浆料被配置为基本上相等地抛光所述顶层和所述下面受覆盖的表面以实现平坦的形貌；以及第三化学机械抛光步骤，去除所述栅极结构的所述电介质并暴露栅极导体。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||