| 发明名称 | 覆盖膜 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种与载带组合使用的覆盖膜，其至少含有基材层(A)、中间层(B)、剥离层(C)及可热封于载带的热封层(D)，中间层(B)含有使用茂金属催化剂聚合得到的、拉伸模量为200MPa以下的直链低密度聚乙烯作为主成分；剥离层(C)含有导电材料，并且含有芳香族乙烯基含量为15至35质量%的芳香族乙烯-共轭二烯共聚物的氢化树脂作为主成分。此种覆盖膜在剥离时剥离强度的偏差小，可抑制剥离时组装工序中的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN103153811A | 申请公布日期 | 2013.06.12 |
| 申请号 | CN201180049553.0 | 申请日期 | 2011.04.18 |
| 申请人 | 电气化学工业株式会社 | 发明人 | 佐佐木彰;德永久次;藤村彻夫 |
| 分类号 | B65D73/02(2006.01)I;B65D85/86(2006.01)I | 主分类号 | B65D73/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种覆盖膜，其特征为至少包括基材层(A)、中间层(B)、剥离层(C)及可热封于载带的热封层(D)，中间层(B)含有使用茂金属催化剂聚合得到的、拉伸模量为200MPa以下的直链低密度聚乙烯作为主成分；剥离层(C)含有导电材料，同时含有芳香族乙烯基的含量为15至35质量%的芳香族乙烯‑共轭二烯共聚物的氢化树脂作为主成分。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||