| 发明名称 | 树脂图案、图案基板、薄膜晶体管基板、层间绝缘膜及显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种使用感度及解析度优异的微透镜阵列曝光机用组成物的树脂图案的制造方法。一种树脂图案的制造方法，其包括：(1)将含有(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂、(B)肟磺酸酯系光酸产生剂、及(C)溶剂的组成物涂布在基板上的步骤；(2)从所涂布的所述组成物中去除所述溶剂的步骤；(3)利用微透镜阵列曝光机对所述组成物照射光化射线来进行曝光的步骤；以及(4)利用水性显影液进行显影的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN103149795A | 申请公布日期 | 2013.06.12 |
| 申请号 | CN201210517667.X | 申请日期 | 2012.12.05 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 藤本进二;中村秀之;安藤豪 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 一种树脂图案的制造方法，其特征在于包括：(1)将含有(A)碱溶解性通过酸的作用而增大的树脂、(B)肟磺酸酯系光酸产生剂、及(C)溶剂的组成物涂布在基板上的步骤；(2)从所涂布的所述组成物中去除所述溶剂的步骤；(3)利用微透镜阵列曝光机对所述组成物照射光化射线来进行曝光的步骤；以及(4)利用水性显影液进行显影的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 | ||