光学模仁加工补偿方法

摘要

一种光学模仁加工补偿方法，该方法包含：(a)依据一光学设计结果以制作一光学系统雏形(prototype)；(b)量测该光学系统的雏形之波前误差(wavefront error)；(c)将该波前误差反向回馈至一光学设计软体，并在该光学设计软体内选定部分设计参数进行该光学系统优化以得到一组的设计参数；以及(d)根据该组的设计参数与该光学设计结果之差异值进行一光学模仁补正。