用于抛光在镶嵌结构中之铝／铜及钛之组合物

摘要

本发明提供用于抛光基板之化学－机械抛光组合物。该抛光组合物包含氧化剂、钙离子、有机羧酸及水，其中该抛光组合物具有1.5至7之pH值。本发明进一步提供一种利用上述抛光组合物之化学－机械式抛光基板的方法。