发明名称 基于局部约束重建的KINECT深度图空洞填充方法
摘要 本发明公开了一种基于局部约束重建的KINECT深度图空洞填充方法,包括步骤:以深度图中空洞像素为中心构建搜索窗,获取搜索窗内的所有非空洞像素;获取空洞像素和非空洞像素在纹理图中的对应位置像素;以各对应位置像素为中心分别构建块,空洞像素的对应位置像素所在的块作为中心块,非空洞像素的对应位置像素所在的块作为邻域块;基于局部约束重建准则构造代价函数,并获得邻域块用来表达中心块的最优权重向量;基于领域块的最优权重向量对搜索窗内的所有非空洞像素的像素值加权求和得到目标像素值,并将目标像素值作为该深度图中该空洞像素的像素值。本发明能更精确地填补深度图在边缘区域和平滑区域的空洞。
申请公布号 CN103136775A 申请公布日期 2013.06.05
申请号 CN201310087363.9 申请日期 2013.03.19
申请人 武汉大学 发明人 胡瑞敏;胡金晖;王中元;龚燕;段漭;宗成强;石艺;郭春辉
分类号 G06T11/40(2006.01)I 主分类号 G06T11/40(2006.01)I
代理机构 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人 张火春
主权项 基于局部约束重建的KINECT深度图空洞填充方法,其特征在于,包括对深度图当前的空洞像素逐一执行以下步骤:步骤1,以空洞像素为中心构建搜索窗,并获取搜索窗内的所有非空洞像素;步骤2,获取搜索窗中心的空洞像素和搜索窗内的所有非空洞像素在纹理图中的对应位置像素,搜索窗中心的空洞像素在纹理图中的对应位置像素简称为空洞像素的对应位置像素,搜索窗内的非空洞像素在纹理图中的对应位置像素简称为非空洞像素的对应位置像素;步骤3,以纹理图中的各对应位置像素为中心分别构建块,将空洞像素的对应位置像素所在的块作为中心块,将非空洞像素的对应位置像素所在的块作为邻域块;步骤4,基于局部约束重建准则构造代价函数,根据所构建的代价函数获得所有邻域块用来表达中心块的最优权重向量,所获得的最优权重向量中的各元素对应各邻域块的最优权重;步骤5,以邻域块的最优权重为位于邻域块中心的非空洞像素的权重,对搜索窗内的所有非空洞像素的像素值加权求和得到目标像素值,并将目标像素值作为深度图中该空洞像素的像素值。
地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学