发明名称 一种测量杂散光的方法和系统
摘要 本发明提供一种测量杂散光的方法,其包括步骤如下:步骤S1:对位移平台初始化,步骤S2:设置测量系统的测量参数,步骤S3:驱动电机带动位移平台对照明光场区域进行扫描,利用点能量探测器对掩模面或硅片面上的一测试点进行光能量探测,将点能量探测器固定在测试点位置,调节可变狭缝的开口大小,得到同一测试点在可变狭缝不同开口大小的光能量值;步骤S4:对于照明光场区域内不同的测试点,重复步骤S3测量可变狭缝不同开口大小的不同光能量值;步骤S5:通过串口通信将光能量值数据存储到计算机中;由计算机对光能量值数据进行数据处理,得到掩模面或硅片面上的每一测试点的杂散光。本发明还提供一种测量杂散光的系统。
申请公布号 CN103135368A 申请公布日期 2013.06.05
申请号 CN201310081105.X 申请日期 2013.03.14
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 范真节;邢廷文;林妩媚;黄智强
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G01J1/00(2006.01)I;G01J1/04(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 梁爱荣
主权项 一种测量杂散光的方法,其特征在于:实现杂散光测量的步骤如下:步骤S1:位移平台初始化,初始化按照执行先后顺序找最佳焦面、找视场中心及方向、照明场视场方向校准、测量系统位置标定;步骤S2:设置测量系统的测量参数,测量参数包括测试面是选择硅片面和掩模面、相干因子设置、照明模式设置、可变狭缝参数设置和测试点参数设置;步骤S3:驱动电机带动位移平台对照明光场区域进行扫描,利用点能量探测器对掩模面或硅片面上的一测试点进行光能量探测,将点能量探测器固定在测试点位置,调节可变狭缝的开口大小,从而改变入射到掩模面或硅片面上的光场,可变狭缝的每一开口大小对应着一光能量值,得到同一测试点在可变狭缝不同开口大小的光能量值;步骤S4:对于照明光场区域内不同的测试点,重复步骤S3测量可变狭缝不同开口大小的不同光能量值;步骤S5:通过串口通信将光能量值数据存储到计算机中;由计算机对光能量值数据进行数据处理,得到掩模面或硅片面上的每一测试点的杂散光。
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