发明名称 卧式光学调整架
摘要 本实用新型公开了一种卧式光学调整架,包括固定板、活动板、驱动机构和复位机构,固定板安装在一基座上方,活动板安装在固定板上方,且活动板与固定板之间形成夹持光学元件的夹槽,驱动机构安装在活动板上,用于调节光学元件在二维平面上的移动,复位机构位于夹槽内且两端分别连接在固定板和活动板上,固定板与基座接触的面积为55mm×75mm~65mm×85mm,固定板的底面到活动板的顶面的距离为卧式光学调整架Z向高度,该Z向高度为23.5mm~25.5mm。本实用新型的卧式光学调整架可避免光学元件受到外界影响而做受迫震动,保证光学元件的稳定性,从而使整个光学系统稳定性得到更好的保证。
申请公布号 CN202975440U 申请公布日期 2013.06.05
申请号 CN201220700891.8 申请日期 2012.12.17
申请人 广州安特激光技术有限公司 发明人 陈聪;何铁锋;李文
分类号 G02B7/00(2006.01)I 主分类号 G02B7/00(2006.01)I
代理机构 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 代理人 黄为
主权项 一种卧式光学调整架,包括固定板、活动板、驱动机构和复位机构,所述固定板安装在一基座上方,所述活动板安装在所述固定板上方,且所述活动板与所述固定板之间形成夹持光学元件的夹槽,所述驱动机构安装在所述活动板上,用于调节光学元件在二维平面上的移动,所述复位机构位于所述夹槽内且两端分别连接在所述固定板和所述活动板上,其特征在于:所述固定板与所述基座接触的面积为55mm×75mm~65mm×85mm,所述固定板的底面到所述活动板的顶面的距离为卧式光学调整架Z向高度,该Z向高度为23.5mm~25.5mm。
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