发明名称 |
一种电触点用Ag/Cr<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合膜及其制备和应用 |
摘要 |
本发明涉及复合膜制备技术,更具体地说,是涉及一种电触点用Ag/Cr2O3复合膜及其制备和应用。复合膜由Ag基体和弥散其中的Cr2O3颗粒组成:按质量百分数计,Cr2O3颗粒含量为1.5%-15.0%,其余为Ag。复合膜的制备分两步进行:首先采用Ag与Cr颗粒共电沉积的方法在浸Ag打底的Cu基体上制备Cr颗粒弥散分布的Ag/Cr复合镀层;然后通过Cr颗粒的原位内氧化,使Ag/Cr复合镀层中的Cr颗粒氧化生成Cr2O3颗粒并均匀弥散于Ag基体中从而获得Ag/Cr2O3复合膜。本发明工艺简单、成熟,易于推广。与采用复合电沉积制备的Ag/3.9Cr2O3复合膜和文献中报道的采用合金内氧化法制备的常用Ag/MexOy型电触点材料(如Ag/12CdO)相比,本发明实施例Ag/4.0Cr2O3复合膜的密度和电阻率相当,硬度明显较高。 |
申请公布号 |
CN102592699B |
申请公布日期 |
2013.06.05 |
申请号 |
CN201110388963.X |
申请日期 |
2011.11.30 |
申请人 |
中国科学院金属研究所 |
发明人 |
彭晓;张洪亮;王福会 |
分类号 |
H01B1/02(2006.01)I;H01B1/08(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H01H1/04(2006.01)I;H01H11/04(2006.01)I |
主分类号 |
H01B1/02(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 |
代理人 |
张志伟 |
主权项 |
一种电触点用Ag/Cr2O3复合膜,其特征在于,复合膜由Ag基体和弥散其中的Cr2O3颗粒组成,按质量百分数计,Cr2O3颗粒含量为1.5%‑15.0%,其余为Ag;复合膜的制备分两步进行:1) 首先采用Ag与Cr颗粒共电沉积的方法在浸Ag打底的Cu基体上制备Cr颗粒弥散分布的Ag/Cr复合镀层;2) 然后通过Cr颗粒的原位内氧化,使Ag/Cr复合镀层中的Cr颗粒氧化生成Cr2O3颗粒并均匀弥散于Ag基体中从而获得Ag/Cr2O3复合膜。 |
地址 |
110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 |