发明名称 |
液晶显示装置及其制造方法 |
摘要 |
一种液晶显示装置及其制造方法,该液晶显示装置具有通过光取向进行取向处理的取向膜,并使残留图像快速消失,获得高画质。取向膜(113)具有光导电特性。由于扫描线(10)下部存在的区域未被背光灯照射到,因此,得不到光导电效果。为了使该部分的电荷快速向开口部(55)的取向膜(113)移动,并使残留图像快速消失,在扫描线(10)的上方配置的取向膜(113)的下部配置光致抗蚀剂(30)。光致抗蚀剂(30)的膜厚为1.5μm左右,是取向膜(113)的厚度70nm的20倍以上,因此,在光致抗蚀剂(30)存在的部分,其横方向的电阻较小。这样,扫描线(10)上存在的取向膜(113)上的电荷快速向开口部(55)的取向膜(113)移动并消失,因此,残留图像快速消失。 |
申请公布号 |
CN103135285A |
申请公布日期 |
2013.06.05 |
申请号 |
CN201210470782.6 |
申请日期 |
2012.11.20 |
申请人 |
株式会社日本显示器东 |
发明人 |
松井庆枝;国松登;园田英博 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
张劲松 |
主权项 |
一种液晶显示装置,具备:TFT基板,其在由沿第一方向延伸并沿第二方向排列的扫描线和沿第二方向延伸并沿第一方向排列的图像信号线包围的区域形成有像素电极;液晶显示面板,其在具有与所述像素对应的滤色器的对向基板之间夹持有液晶,在所述液晶显示面板的背面配置有背光灯,其特征在于,覆盖所述扫描线、所述图像信号线、所述像素电极而形成取向膜,所述取向膜接受光取向处理,所述取向膜具有光导电特性,在覆盖所述扫描线的所述取向膜的下部配置有光致抗蚀剂。 |
地址 |
日本千叶县 |