发明名称 |
存储元件和存储设备 |
摘要 |
本发明公开一种存储元件和存储设备。存储元件具有层叠的结构,包括:存储层,其具有与膜表面垂直的磁化,并且磁化方向取决于信息而变化,并包括Co-Fe-B磁性层,磁化方向通过在层叠结构的层叠方向施加电流以在存储层中记录信息而改变,磁化固定层,其具有与变成存储在存储层中的信息的基准的膜表面垂直的磁化,以及中间层,其由非磁性材料形成,并设置在存储层和磁化固定层之间;第一氧化层和第二氧化层。 |
申请公布号 |
CN103137855A |
申请公布日期 |
2013.06.05 |
申请号 |
CN201210488520.2 |
申请日期 |
2012.11.26 |
申请人 |
索尼公司 |
发明人 |
山根一阳;细见政功;大森广之;别所和宏;肥后丰;浅山彻哉;内田裕行 |
分类号 |
H01L43/08(2006.01)I;G11C11/15(2006.01)I |
主分类号 |
H01L43/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 |
代理人 |
余刚;吴孟秋 |
主权项 |
一种存储元件,包括:层叠结构,包括:存储层,其具有与膜表面垂直的磁化,并且磁化方向取决于信息而变化,并包括Co‑Fe‑B磁性层,通过在所述层叠结构的层叠方向施加电流而改变所述磁化方向以在所述存储层中记录所述信息,磁化固定层,其具有与成为存储在所述存储层中的信息的基准的膜表面垂直的磁化,以及中间层,其由非磁性材料形成,并设置在所述存储层和所述磁化固定层之间;第一氧化层,其至少形成在与所述存储层接触的所述中间层和所述存储层之间的界面上;以及第二氧化层,其至少形成在位于所述中间层相反的一侧与所述存储层接触的不同层和所述存储层之间的界面上,所述不同层的所述第二氧化层是包含Li的Li基氧化层。 |
地址 |
日本东京都 |