气化原料供给装置、基板处理装置及气化原料供给方法

摘要

本发明提供气化原料供给装置、基板处理装置及气化原料供给方法。气化原料供给装置能够提高载气中的液体原料的蒸气的饱和度。利用气化原料供给装置解决上述课题，气化原料供给装置包括：贮存罐，其用于贮存液体原料；第1温度控制部，其用于将贮存罐控制在第1温度；载气导入管，其用于向贮存罐内导入载气；处理气体导出管，其连接于贮存罐，用于使处理气体从贮存罐流出，处理气体通过在载气中含有液体原料的蒸气而生成；容器，其包括用于连接处理气体导出管的流入口、供从流入口流入的处理气体流出的流出口；障碍构件，其设置在容器内的流入口与流出口之间，用于阻碍处理气体的流动；第2温度控制部，其用于将容器控制在比第1温度低的第2温度。

主权项

一种气化原料供给装置，其特征在于，该气化原料供给装置包括：贮存罐，其用于贮存液体原料；第1温度控制部，其用于将上述贮存罐控制在第1温度；载气导入管，其用于向上述贮存罐内导入载气；处理气体导出管，其连接于上述贮存罐，用于使处理气体从上述贮存罐流出，该处理气体是通过在从上述载气导入管导入到上述贮存罐内的上述载气中含有上述液体原料的蒸气而生成的；容器，其包括用于连接上述处理气体导出管的流入口、供从上述流入口流入的上述处理气体流出的流出口；障碍构件，其设置在上述容器内且位于上述流入口与上述流出口之间，用于阻碍上述处理气体的流动；第2温度控制部，其用于将上述容器控制在比上述第1温度低的第2温度。