化学气相淀积材料生长设备的反应源进气分配方法与装置

摘要

CVD材料生长设备的反应源进气分配的方法，让分解温度相差较大的反应气源经各自的输运通道单独地进入反应腔体，并对分解温度较高的源气体进行加热预分解后再让其与分解温度较低的反应源气体充分混合后，在合适的温度下进行反应以外延生长薄膜材料。对于分解温度较高的反应源气体，在输运至石墨反应腔进气端前需对其进行加热而使其预分解，这个过程是通过在导引气体的细石英管周围配置石墨管感应件、经射频加热的方法来实现的。

主权项

化学气相淀积材料生长设备的反应源进气分配的装置，其特征是化学气相淀积材料生长设备的加热装置采用射频感应加热器，射频感应加热器的第一感应件为石墨腔；石墨腔中的基座上放置衬底，石墨腔位于石英管内；分解温度较低的反应源气体和分解温度较高的反应源气体分别通过石英管封口法兰后经导引细石英管导入石墨腔的进气端附近；分解温度较高的反应源气体的导引细石英管周围配置石墨管以构成第二感应件。