发明名称 | LED芯片及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种LED芯片及其制备方法,该芯片的边缘呈波纹状或者锯齿状。本发明提供的制备该芯片的方法包括以下步骤:在外延片上镀透明电极层,并进行MESA图形光刻;化学蚀刻;等离子体刻蚀;透明电极图形光刻;芯片电极图形光刻;以及金属蒸镀和剥离形成电极,其中,上述MESA图形光刻所用光刻版的边缘制作成波纹状或者锯齿状。根据本发明提供的LED芯片具有良好的光取出效率,克服了全反射对光取出效率的影响。 | ||
申请公布号 | CN101944564B | 申请公布日期 | 2013.06.05 |
申请号 | CN201010271491.5 | 申请日期 | 2010.09.03 |
申请人 | 湘能华磊光电股份有限公司 | 发明人 | 姚禹;许亚兵;戚运东;罗正加 |
分类号 | H01L33/22(2010.01)I | 主分类号 | H01L33/22(2010.01)I |
代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 吴贵明 |
主权项 | 一种制备LED芯片的方法,所述LED芯片包括外延片、形成在所述外延片上的透明电极层和芯片电极,所述芯片的边缘呈波纹状或者锯齿状,所述制备LED芯片的方法包括以下步骤:生长外延片;通过光刻和化学蚀刻的方式形成MESA图形光刻板和切割道;通过ICP等离子刻蚀方式将图形转移到GaN上,并且此时形成台面,部分N区裸露;在透明电极层上进行光刻和化学蚀刻;通过光刻和蒸发的方法形成P型电极和N型电极;以及经过玻璃、合金、清洗工艺形成产品,其特征在于,所述MESA图形光刻所用光刻版的边缘制作成波纹状或者锯齿状。 | ||
地址 | 410007 湖南省郴州市有色金属产业园 |